7nm+EUV工艺大规模量产，EUV光刻机销量有望走高
台积电近日宣布，已经开始了7nm+ EUV工艺的大规模量产，这是该公司乃至整个半导体产业首个商用EUV极紫外光刻技术的工艺。作为EUV设备唯一提供商，市场预估荷兰ASML公司籍此EUV设备年
光刻机 搜索结果
继半导体材料后，光刻机相关设备市场或受日韩贸易战影响
在半导体设备的供应商名单中，前15大厂商营收占总产值超过8成，由于半导体制造厂商在设备选择上多属于长期合作模式，因而形成目前半导体设备厂商大者恒大的态势。从全球半导体
科研成果作价入股 国望光学加快光刻机量产速度
8月14日，记者从经开区企业北京国望光学科技有限公司获悉，其增资项目在北京产权交易所完成。通过此次增资，国望光学引入中国科学院长春光学精密机械与物理研究所和中国科学院
北京加快突破光刻机“卡脖子”难题
我国正加速实现中高端光刻机的国产化。近日，亦庄企业北京国望光学科技有限公司增资项目在北京产权交易所完成。通过此次增资，国望光学引入中国科学院长春光学精密机械与物理
国产光刻机的现状究竟如何？
随着信息社会的迅速发展，手机、电脑、电视等各种电子设备越来越 迷你 ，从之前的 大哥大 到现在仅仅几个硬币厚的时尚手机，从老式的矮胖电视到如今轻薄的液晶电视，都不离开集
光刻机的蜕变及专利分析
近两年，中国芯片产业受到了严重打击，痛定思痛之余也让国人意识到芯片自主研发的重要性。从2008年以来，十年间，芯片都是我国第一大宗进口商品，进口额远超于排名第二的石油。
华虹无锡首批光刻机即将搬入；Q1全球DRAM品牌厂营收排名；粤芯半导体12英寸生产线9月量产
华虹无锡项目联合体总包单位十一科技官方消息显示，5月24日，华虹无锡项目举行第十一次推进会暨首台工艺设备搬入仪式，并进行了华虹七厂授牌仪式。华虹宏力总裁、党委书记唐均
EUV光刻机研发挑战仍存，本土企业如何突破技术成本关?
光刻是芯片制造技术的主要环节之一。目前主流的芯片制造是基于193nm光刻机进行的。但是193nm的光刻技术依然无法支撑40nm以下的工艺生产，为了突破工艺极限，厂商不得不将193nm液浸技