佳能新发售KrF半导体光刻机“FPA-6300ES6a”Grade10升级包
“Grade10”升级包将助力该设备在300mm晶圆规格基础上，以每小时高达300片晶圆的加工能力实现半导体光刻行业内的更高水平。.
光刻机
购买ASML光刻机设备，晶瑞股份“备粮”加码高端光刻胶
9月29日，晶瑞股份发布公告，披露了其向不特定对象发行可转换公司债券预案，并拟购买ASML光刻机设备，以加码其光刻胶业务。募资5.50亿元攻坚ArF光刻胶公告显示，公司于9月28日召开第
ASML：从荷兰向中国出口DUV光刻机无需许可证
本土晶圆代工企业崛起之际，设备进口议题备受关注。光刻机龙头ASML近日表示，从荷兰向中国出口DUV光刻机无需许可证。 根据当前法规，ASML无需获得美国出口许可证便可以继续从荷兰
ASML：三季度交付60台光刻机，营收近40亿欧元
10月14日，光刻机制造商ASML发布三季度的财报。公司第三季度净销售额为39.58亿欧元，同比增长32.6%；净利润为10.62亿欧元，同比增长29.3%。财报显示，在三季度近40亿欧元的营收中，30.9
ASML全新EUV光刻机将于2021年发货，生产效率提升18%
据《科创板日报》消息，ASML公布了EUV路线图上的新机型TWINSCANNXE:3600D的最终规格，这是30mJ/cm2的曝光速度达到每小时曝光160片晶圆，提高了18%的生产率，并改进机器匹配套准精度至1.1纳米
英唐智控：收购先锋微技术获日本批准，自有设备含日产光刻机
2020年8月24日，深圳市英唐智能控制股份有限公司（以下简称 英唐智控 ）在互动平台上回答投资者提问时表示，公司针对先锋微技术的收购事项已经获得日本政府批准，先锋微技术自有
英唐智控：收购日本光刻机制造商先锋微技术已获日本政府批准
英唐智控回应道：先锋微技术光刻机主要用于模拟芯片的制造，在满足其自身生产研发需要的前提下，不排除向具备条件的其他客户提供产能支持，但公司目前尚未启动该类型的合作。
为扩产做准备 粤芯半导体更先进光刻机已进厂
近日有消息称，广州粤芯半导体更先进光刻机已进厂，为扩产做好最重要准备，南方网记者从投资方智光电气确认了该消息。资料显示，粤芯半导体成立于2017年12月，粤芯半导体的注册
2019年ASML光刻机出货26台 3纳米设备产品或2021年问世
在晶圆代工龙头台积电将于 2020 年正式量产 5 纳米制程，而竞争对手三星也在追赶的情况下，目前两家公司也在积极研发更先进的 3 纳米制程。这些先进半导体制程能研发成功，且让未
北京加快突破光刻机“卡脖子”难题
我国正加速实现中高端光刻机的国产化。近日，亦庄企业北京国望光学科技有限公司增资项目在北京产权交易所完成。通过此次增资，国望光学引入中国科学院长春光学精密机械与物理
科研成果作价入股 国望光学加快光刻机量产速度
8月14日，记者从经开区企业北京国望光学科技有限公司获悉，其增资项目在北京产权交易所完成。通过此次增资，国望光学引入中国科学院长春光学精密机械与物理研究所和中国科学院
华虹无锡首批光刻机即将搬入；Q1全球DRAM品牌厂营收排名；粤芯半导体12英寸生
华虹无锡项目联合体总包单位十一科技官方消息显示，5月24日，华虹无锡项目举行第十一次推进会暨首台工艺设备搬入仪式，并进行了华虹七厂授牌仪式。华虹宏力总裁、党委书记唐均
光刻机的蜕变及专利分析
近两年，中国芯片产业受到了严重打击，痛定思痛之余也让国人意识到芯片自主研发的重要性。从2008年以来，十年间，芯片都是我国第一大宗进口商品，进口额远超于排名第二的石油。
华虹无锡基地首批光刻工艺设备进场，9月试生产
2019年6月6日，华虹无锡集成电路研发和制造基地（一期）12 英寸生产线建设项目首批三台光刻机搬入仪式举行。光刻设备的搬入标志着华虹无锡基地项目建设进入新的里程，整个项目也
EUV光刻机研发挑战仍存，本土企业如何突破技术成本关?
光刻是芯片制造技术的主要环节之一。目前主流的芯片制造是基于193nm光刻机进行的。但是193nm的光刻技术依然无法支撑40nm以下的工艺生产，为了突破工艺极限，厂商不得不将193nm液浸技
我国科学家另辟蹊径造出9纳米光刻试验样机
4月10日记者从武汉光电国家研究中心获悉，该中心甘棕松团队采用二束激光在自研的光刻胶上突破了光束衍射极限的限制，采用远场光学的办法，光刻出最小9纳米线宽的线段，实现了从