光刻机
佳能新发售KrF半导体光刻机“FPA-6300ES6a”Grade10升级包
“Grade10”升级包将助力该设备在300mm晶圆规格基础上，以每小时高达300片晶圆的加工能力实现半导体光刻行业内的更高水平。.
ASML：从荷兰向中国出口DUV光刻机无需许可证
本土晶圆代工企业崛起之际，设备进口议题备受关注。光刻机龙头ASML近日表示，从荷兰向中国出口DUV光刻机无需许可证。 根据当前法规，ASML无需获得美国出口许可证便可以继续从荷兰
ASML全新EUV光刻机将于2021年发货，生产效率提升18%
据《科创板日报》消息，ASML公布了EUV路线图上的新机型TWINSCANNXE:3600D的最终规格，这是30mJ/cm2的曝光速度达到每小时曝光160片晶圆，提高了18%的生产率，并改进机器匹配套准精度至1.1纳米
ASML：三季度交付60台光刻机，营收近40亿欧元
10月14日，光刻机制造商ASML发布三季度的财报。公司第三季度净销售额为39.58亿欧元，同比增长32.6%；净利润为10.62亿欧元，同比增长29.3%。财报显示，在三季度近40亿欧元的营收中，30.9