ASML光刻机，第共1页/9条页的相关电子产品及集成电路公司信息

ASML新一代多光束检测设备交付客户效率较传统检测提升600%

半导体先进制程的检测又有新进步！荷商半导体设备大厂艾司摩尔（ASML）29日宣布，已经完成针对5纳米以上先进制程节点研发的第一代HMI多光束检测（MBI）系统的整合测试。型号HMI eS

半导体材料 ASML光刻机2020-06-01

5月，全世界著名光刻机生产研发公司荷兰阿斯麦（ASML）公司与无锡高新区管委会签署战略合作协议，未来阿斯麦公司将在原有基础上对资源进行整合提升，加速扩建光刻设备技术服务（

半导体材料 ASML光刻机2020-06-10

2020年7月15日，全球半导体微影技术领导厂商阿斯麦(ASML)发布2020年第2季财报，数据显示，阿斯麦该季的销售净额(net sales)为33亿欧元，净收入(net income)为8亿欧元，毛利率(gross margin)48.2%。

半导体材料 ASML光刻机2020-07-15

在晶圆代工龙头台积电将于 2020 年正式量产 5 纳米制程，而竞争对手三星也在追赶的情况下，当前两家公司也在积极研发更先进的 3 纳米制程。

封装测试 ASML光刻机2020-02-19

全球半导体设备厂ASML于17日公布2019年第2季财报。资料显示，ASML第一季缴出成长成绩单，整体表现优于市场预期。根据ASML公布的资料显示，2019年第2季的营收为26亿欧元，较第1季的22.2

电子材料 7纳米 ASML光刻机 EUV ASML2019-07-18

为了因应制程微缩的市场需求，全球主要生产EUV设备的厂商ASML正积极开发下一代EUV设备，就是High-NA（高数值孔径）EUV产品，预计几年内就能正式量产。

ASML光刻机电子材料光刻机 EUV ASML2019-07-02

就在7纳米制程节点以下先进制程的领域，必不可少的关键就是极紫外线微影（EUV）设备导入。除了三星用在首代7纳米LPP制程，台积电也自2019年开始，将EUV导入加强版7纳米+制程。

电子材料 ASML光刻机 EUV ASML2019-06-10

在先进制程纳米节点持续微缩下，光刻机是重要关键设备，半导体光刻机设备市场规模主要有3家设备供应商：ASML、Nikon及Cannon。。

全球半导体微影技术领导厂商艾司摩尔(ASML)18日发布2019年第一季财报。第一季销售净额(net sales)为22亿欧元，净收入(net income)3.55亿欧元，毛利率(gross margin)41.6%。因逻辑芯片客户需求强劲

IC设计 ASML光刻机 ASML2019-04-18