EV集团推出面向大批量生产的下一代 EVG®120 全自动涂胶机
全新超紧凑平台集成原位光刻胶厚度测量与晶圆边缘曝光功能,兼具 EVG®150 级别性能,在更小占地空间内实现高度灵活性。
全新超紧凑平台集成原位光刻胶厚度测量与晶圆边缘曝光功能,兼具 EVG®150 级别性能,在更小占地空间内实现高度灵活性。
12英寸晶圆、28nm以下先进制程用功能性湿电子化学品,仍然高度依赖进口,G5级超高纯产品国产化率不足20%。
双方以高品质、在地化的先进半导体材料解决方案为核心,充分彰显大金在半导体领域的技术积累与全链路服务能力。